电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体

专利号：CN01116803.X

公布日：2001-11-14

申请人：索尼株式会社

多电子束聚焦装置和控制方法

专利号：CN202010812526.5

公布日：2020-11-03

申请人：深圳市奥谱太赫兹技术研究院

电子束流能量密度分布测量系统及方法

专利号：CN201910300519.4

公布日：2020-08-14

申请人：清华大学;天津清研智束科技有限公司

一种聚焦电子束蒸发源及蒸发镀膜装置

专利号：CN201410698963.3

公布日：2015-05-13

申请人：中国电子科技集团公司第四十八研究所

一种多电子束中心送丝的电子束加工系统及加工方法

专利号：CN201611039005.0

公布日：2019-02-19

申请人：沈阳金锋特种设备有限公司

一种多电子束中心送丝的电子束加工系统

专利号：CN201621269220.5

公布日：2017-05-31

申请人：沈阳金锋特种设备有限公司

多电子束聚焦装置

专利号：CN202021684033.X

公布日：2021-03-02

申请人：深圳市奥谱太赫兹技术研究院

电子束流强测量设备及测量方法

专利号：CN201810876585.1

公布日：2021-05-11

申请人：北京铭杰医疗科技有限公司

电子束照射设备和方法

专利号：CN00809466.7

公布日：2002-07-10

申请人：株式会社荏原制作所

一种基于涡旋圆艾里的激增自聚焦电子束生成方法及系统

专利号：CN202211330455.0

公布日：2023-03-24

申请人：华南师范大学

X射线产生器和X射线拍摄设备

专利号：CN201210411517.0

公布日：2013-05-15

申请人：三星电子株式会社

电子束辐射固化膜玻璃及其制造方法

专利号：CN200910169719.7

公布日：2011-03-30

申请人：王广武

一种采用电子束的光刻方法

专利号：CN201610405199.5

公布日：2019-02-05

申请人：清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司

涂层装置和方法

专利号：CN201910618356.4

公布日：2022-10-28

申请人：冯·阿登纳资产股份有限公司

一种多束电子束束斑的测量装置及方法

专利号：CN202210842745.7

公布日：2022-10-18

申请人：中国科学院电工研究所